필름 평가

필름 평가

Film total thickness

Si wafer thickness monitoring system

SF-3 series


Film(coating) thickness

Array spectrometer

MCPD series

Film thickness line scanner

(in-line type)

Film thickness line scanner

(offline type)


Color filter

LCD cell gap measurement

RETS series

Retardation film and material evaluation system RETS 100

High speed retardation measurement RE-200


Transmittance

Array spectrometer

MCPD series


Film total thickness

Si wafer thickness monitoring system SF-3 series
  • CMP 또는 backside grinding에서 Si 웨이퍼 두께의 실시간 모니터링이 가능합니다.

  • 비접촉, 비파괴 측정이 가능합니다.
  • 두께 측정을 위한 독자적인 분석 알고리즘을 사용합니다. (특허 출원 완료)



Film(coating) thickness

Array spectrometer MCPD series
  • UV부터 NIR까지의 파장 범위를 포괄하는 다목적 분광기입니다.

  • 마이크로 스팟 스펙트럼, 광원, 투과율, 반사율, 물체 색상 및 두께 측정이 가능합니다.

  • 이전 모델보다 60% 더 소형화, 경량화 되었습니다.


Film thickness line scanner(in-line type)
  • 초다분광법을 이용하여 필름 전면의 두께 측정이 가능합니다.
  • 독자적인 기술로 하드웨어(초다분광 카메라)와 소프트웨어를 설계했습니다.

  • 고정밀 측정이 가능합니다. (특허 취득)

  • 병렬연결방식으로 샘플 전체를 한 번에 검사할 수 있습니다.


Film thickness line scanner(off line type)
  • 초다분광법을 이용하여 필름 등의 면내 막두께 얼룩을 전면 측정합니다.

  • 독자적인 기술로 하드웨어(초다분광 카메라)와 소프트웨어를 설계했습니다.

  • 고정밀 측정이 가능합니다. (특허 취득)



Retardation

LCD cell gap measurement RETS series
  • 편광 광학 시스템을 사용하는 분광기입니다.
  • LCD 셀의 셀겝 및 컬러 필터의 빈셀겝을 측정합니다.
  • 1mm 광학 소자에서 10세대 대형 LCD 패널까지 다양한 크기의 샘플 측정이 가능합니다.

Retardation film and material evaluation system RETS 100
  • 광학 필름의 특성을 측정합니다.
  • 지정된 파장에서 정확한 위상차를 측정합니다.
  • 위상차의 파장 분산도와 배향각 및 광축을 측정하는데 사용됩니다.

High speed retardation measurement RE-200
  • 0nm부터 낮은 위상차를 측정하는데 적합합니다.

  • 광축 감지와 동시에 위상차를 고속으로 측정합니다. 0.1초 이내에 측정 가능하며 이는 타사 제품 중에서 가장 빠릅니다.

  • 550nm 외에 다양한 파장을 측정할 수 있습니다.



Transmittance

Array spectrometer MCPD series
  • UV부터 NIR까지의 파장 범위를 포괄하는 다목적 분광기입니다.

  • 마이크로 스팟 스펙트럼, 광원, 투과율, 반사율, 물체 색상 및 두께 측정이 가능합니다.

  • 이전 모델보다 60% 더 소형화, 경량화 되었습니다.